我们要做的一方面是加强对于现阶段5纳米制程EUV光刻机的生产，使其能够满足我们国内芯片制造领域的发展和需求，解决芯片紧缺这个紧要问题。
虽然说相比于目前国际先进的3纳米和2纳米芯片还有一定的差距，但这个差距其实并不大。就现阶段来说，完全可以满足我们相关企业对于高端芯片的需求。
而另一方面，我们也需要吃透和消化5纳米制程EUV光刻机研制成功经验，为下一步研发更高制程EUV光刻机奠定基础。”
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《军工科技》第一千五百一十九章 这项技术的成功将是对综合国力的提升。(2/2)
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