林苯坚的湿法光刻技术大获成功，不仅革新了集成电路的制程，还使先进半导体芯片的特征尺寸，能持续缩减为5-7纳米量级，为建造最强大的计算和通信系统做出了关键贡献，让积电的制程技术一直领先了15年。

　　而且，不但积电完成了技术突破，荷兰阿斯麦也迅速崛起，击垮东洋霸主成为行业巨头，和积电结下了深厚的战友情。

　　如果不是叶风的出现，15年后的阿斯麦将在美国的重压下，卡着中芯的脖子，不再给中芯提供7纳米级的先进光刻机，差点将中芯逼入绝境。