八月三号，鹏城，实验楼三层。

钱院士带了十二个人，关在机房里，三天没出来。

手册拆开之后，问题比想象的多。蔡司的镀膜工艺用的是磁控溅射加离子束辅助沉积，两套系统配合，精度要求到了亚纳米级别。

钱院士的助手小周拿着打印出来的参数表，站在设备前，对了半天。

“钱老，咱们这台溅射设备，靶材转速最高到三千转，手册上要求四千五。”

钱院士走过来，看了一眼参数。

“膜厚控制呢？”

小周翻到第三页：“手册要求单层膜厚度误差不超过零点零二纳米。咱们这台设备最好做到零点零八，差四倍。”

钱院士把参数表放下，摘了老花镜。

设备不够——这是硬伤。

他打给张红旗。

“红旗，设备精度不够。手册里的工艺，咱们现有的机器跑不了。”

张红旗在煤市街：“差多少？”

“核心指标差三到四倍。要么换设备，要么改设备。换设备国内买不到，国外买走审批，最快半年。”

张红旗说：“改。”

“改设备风险很大，改坏了连现在的精度都保不住。”

张红旗说：“钱老，您先稳住。材料那边我来解决。设备改造的方案您先出，我这边配合。”

挂了。

八月四号，东京，住友化学株式会社。

住友的半导体材料部门收到了一份内部通报：ASmL和一家开曼信托公司达成了专利交叉授权协议，镀膜技术参数外流。

住友的材料部部长田中看完通报，叫来下属。

“查一下，之前跟我们采购高纯度钼靶材的那个中国团队，是不是鹏城那边的？”

下属查了记录：“是。去年十一月下过一批订单，后来因为出口管制审批卡住了，一直没发货。”

田中点头：“现在ASmL把技术给出去了，说明这个团队有背景。重新联系他们。”

下属问：“价格呢？”

田中说：“涨百分之五十。”

下属没多问，发了邮件。

八月五号，鹏城，钱院士收到住友的邮件。

他看了报价，眉头皱了一下，打给张红旗。

“材料供应商主动联系过来了——日本住友。高纯度钼靶材，去年卡住的那批货，现在愿意卖了，但是涨价百分之五十。”

张红旗问：“原价多少？”

“一批三百二十万美元，现在要四百八十万。”

张红旗没犹豫：“买。二十四小时内发货，到不了货换供应商。”

钱院士说：“国内没有替代供应商，这个纯度只有住友和德国贺利氏能做。”

张红旗说：“那就让他们发。钱的事我来办。”

挂了电话，张红旗打给刘浩。

刘浩在京城，刚从北影厂出来。

“浩子，走个账。四百八十万美元，从香港账户出，打到住友化学的指定账户，今天之内到。”

刘浩问：“什么钱？”

“材料费，不多问。”

刘浩说：“行，我让陈默那边办。”

当天下午，陈默在香港操作。钱从瑞士账户转到香港，再从香港打到东京。四个小时，到账。

住友收到款，田中签了发货单。钼靶材从横滨港装船，走海运，三天到鹏城。

八月八号，材料到了。

钱院士没急着装料。他带着团队蹲在溅射设备前，干了一件事。

改机器。

小周把设备的控制电路板拆出来。钱院士拿着手册上的参数，在白板上画了一个补偿模型。

“设备精度不够，用软件补。”

他让三个博士生把实验楼地下室的模拟集群调出来——四十台服务器，全部接上——跑了一个补偿算法。

思路很简单：设备硬件做不到零点零二纳米的精度，就在每一层镀膜的过程中用传感器实时采集数据，反馈到算法里，算法即时修正下一步的沉积参数。

等于让一个手抖的人，靠一套自动修正系统，画出一条直线。

八月九号，凌晨两点，补偿参数跑出来了。

小周把参数灌进设备控制系统，重启。

溅射设备嗡嗡响了起来。

钱院士站在无尘室的观察窗外，看着里面。

第一层钼膜，沉积开始。

传感器采集，数据回传，算法修正。第二层硅膜，沉积，采集，修正。

一层钼，一层硅，交替沉积。

EUV反射镜面需要四十对钼硅多层膜——八十层，每层厚度不到七纳米。

八月十号，下午三点，八十层镀完。

小周从无尘室里出来，手里端着一块圆形基片，直径十五厘米，表面泛着金属光泽。

钱院士接过来，放在检测台上。

椭偏仪启动，激光打在镜面上，反射，探测器接收。

数据出来了。

小周看着屏幕，念数：“单层膜厚度误差，零点零三五纳米。”

钱院士没说话。

手册要求零点零二，他们做到了零点零三五。没达标，但比原来的零点零八好了一倍多。

“反射率呢？”

小周切换到下一组数据：“十三点五纳米波长，反射率百分之六十二点三。”

钱院士看着这个数字。

手册上蔡司的指标是百分之六十七，差了不到五个点。

但是，EUV光刻机的最低工作门槛是百分之六十。

他们过线了。

钱院士走到角落，拿起电话。

“红旗，光打通了。”

张红旗在煤市街的院子里，正看着陈默送来的一份报告。

“什么意思？”

钱院士声音平稳：“极紫外光源，十三点五纳米，穿过反射镜面，形成了稳定光束。参数达到了EUV光刻的最低发光标准。”

张红旗把手里的报告