也能给他整破产。

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随着全球研发投入排行榜发布，也产生了一个极大的好处，星空研究院招揽全球顶级人才更加顺利了。

作为全球研发投入最高的研究院，这个名号就是个金字招牌，明晃晃的告诉全球各地的人才。

想要资金、想要科研资金费…就到碗里来。

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不但自己大规模招聘人才，星空研究院近一年来也开始和全球各大名校合作，联合推进一些科研项目，共同开发。

面对一些很难招揽的全球顶级大牛，也会给他们提供研发经费，给予赞助，共享科研成果。

如此一番动作之下，星空研究院的研发实力越发的强悍，即便底蕴上还欠缺一点，论人才数量和质量，也绝对是全球最顶级的那一小撮了。

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随着时间到了三月十二日，林睿再次得到一次向系统咨询的机会。

他考虑良久，想想目前最大的短板，决定把机会放在半导体领域。

半导体领域，不但是星空科技集团的短板，更是国内的短板。

即便有了中芯国际，可以制造芯片，和国际上最先进的制程差距只有一两代。

但，看似一两代，想追上却非常难。

作为后发者，即便技术上能追上对方，专利也早被对方申请完了，利用专利就能锁死你。

更何况，即便有了专利和技术，最先进的光刻机你也买不来。

在芯片及半导体领域，中国仍然任重道远。

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这么一直被别人卡脖子也不是办法，林睿便咨询一下系统，看看有没有好的解决方案。

随着问题的提出，系统的答案出乎林睿的意料，竟然真的有办法。

只是，这是一套完全不同的半导体体系，和传统半导体制造技术完全不同。

一套新的技术体系，代表着所有的专利都是新的，所有的设备和技术体系也是新的。

不但任何人卡不了脖子，只要发展起来，反而能反向卡别人脖子。

这就是“半导体纳米线技术。”

这其实并不是新技术，世界上早已有之，早在2001年，半导体纳米线电子器件就被《科学》杂志评选为世界十大突破性进展。

麻省理工学院《技术评论》2004年，把纳米线技术列为影响未来的十大技术之一。

《自然》杂志在2006年，也把半导体纳米线研究列为物理学的十大研究热点之一。

第403章半导体纳米研究院

这项技术虽然没有大规模商业化，但已经有了雄厚的基础，在过去的二十年间，全球科学家围绕半导体纳米线开展了系统深入的研究，为半导体纳米线功能器件领域，带来了蓬勃发展。

根据Web of Sce的检索结果统计，从1999年到2015年，全世界关于半导体纳米线研究SCI论文总数超过17万篇。

经过这些年的发展，大家对半导体纳米线的可控制备、性能调控、器件构筑与应用的认识不断加深。

半导体纳米线技术也渐渐在不同领域，展现了巨大应用潜力，正逐渐从基础研究走向实际应用。

目前，基于半导体纳米线的场效应管、纳米发电机、纳米芯片、场发射器件、太阳能电池、发光二极管、激光器、光电探测器、光波导器件、存储器件、光催化以及高敏感化学与生物传感器等功能器件，相继被研制出来。

虽然，这些仅仅是实验室产品，成本极高，并无法大规模商用。

它未来的潜力和价值，却是无法估量的。

特别是在半导体领域，半导体纳米线承载着全球科学家的期盼，有望实现半导体功能器件领域的变革性发展。

根据一些相关领域的大牛展望，半导体纳米线功能器件，或许将成为纳米科技走向应用的重要突破点。

对芯片、各种半导体器材而言，小型化、低能耗和智能化一直是其重要的发展趋势。

当半导体器件线宽小于100nm时，将对设备和制造工艺提出更高要求，成本增加巨大，传统工艺的局限性越严重。

而基于传统工艺的光刻机，从起初的UV光刻机水平，逐步提升到了DUV光刻机水平，再发展到现在的EUV光刻机水平，在这条路上越走越远。

设备越来越大，成本越来越高。

它还有一个致命的缺点，就是有自身的物理极限，发展到一定的地步，就无法再深入发展下去了。

众所周知，光刻机也称紫外线光刻机，是利用紫外线加工芯片，DUV光刻机就是深紫外线光刻机，EUV光刻机就是极深紫外线光刻机。

光的颜色越靠近红色，它的频率越低；越靠近紫色，它的频率就越高。光的速度是一个常数，频率越高，波长越小。

EUV光刻机采用的光频率是极深紫外线频率，对应的波长大约为10~15纳米；DUV光刻机采用的光频率是深紫外线频率，对应的波长大约为200纳米；UV光刻机采用的光频率是紫外线频率，其对应的波长大约为360纳米。

也就是说，光刻机越先进，需要的光频率越高。

光的频率，它是一个物理客观存在的数值，是很难通过人为的手段去改变提高的。

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